【专利摘要】本发明公开了一种真空传输装置，包括：真空传输系统、真空传输压力调节系统和真空传输温度调节系统；其中，所述真空传输系统，用于真空传输平台提供高真空度；所述真空传输压力调节系统，用于真空传输平台提供稳定的真空度及调节压力；所述真空传输温度调节系统，用于真空传输平台工作环境提供稳定的温度。本发明采用真空传输系统、以及稳定真空传输平台真空度的真空传输压力调节系统，以及稳定真空传输平台环境温度的真空传输温度调节系统；真空传输系统有益于高真空度及高洁净度的获得，真空传输压力调节系统有益于真空度稳定及调节，真空传输温度调节系统有益于真空传输平台传输环境温度的稳定，从而有效提高半导体产品合格率。

　　[0002]目前，全球半导体消费市场和产业增长速度十分迅猛，尤其是，国内的半导体消费市场和产业增长速度是全球的10倍多。随着半导体行业极其激烈的竞争，半导体产业越来越需要极大规模的集成化，并伴随着半导体行业要求越来越高的产品合格率bd半岛。

　　[0006]本发明提供一种真空传输装置，包括:真空传输系统、真空传输压力调节系统和真空传输温度调节系统；其中，所述真空传输系统，用于真空传输平台提供高真空度；所述真空传输压力调节系统，用于真空传输平台提供稳定的真空度及调节压力；所述真空传输温度调节系统，用于真空传输平台工作环境提供稳定的温度。

　　[0007]—些实施例中，所述真空传输系统包括LoadLock A腔室、LoadLock B腔室、真空传输腔室、真空规、真空压力计、真空抽气管路、气动抽气角阀，所述LoadLock A腔室、LoadLock B腔室和真空传输腔室为独立的三个腔室，所述真空抽气管路分别通过所述气动抽气角阀控制抽取所述三个腔室，所述三个腔室分别与所述真空规和线]一些实施例中，所述真空传输系统还包括机械无油干栗和低温栗，所述机械无油干栗通过所述抽气管路分别连接所述LoadLock A腔室、LoadLock B腔室和真空传输腔室；所述低温栗连接所述线]—些实施例中，还包括大气传输系统，所述大气传输系统通过LLA大气门阀和LLB大气门阀与所述LoadLock A腔室、LoadLock B腔室连通和隔离。

　　[0010]—些实施例中，大气手将半导体由洁净度等级达到百级的大气传输系统传输到LoadLock A腔室中缓存；LoadLock A腔室由机械无油干栗抽取前级真空；通过真空手将半导体由LoadLock A腔室传输到真空传输腔室；真空传输腔室由低温栗抽取高真空；由真空手将半导体传输进入工艺腔进行加工。

　　[0011]—些实施例中，所述真空传输压力调节系统包括纯净氮气气源、充气管路及充气气阀，所述充气气阀设置在充气管路上，所述纯净氮气气源与充气管路连接，所述充气管路分别连接LoadLock A腔室、LoadLock B腔室和线]—些实施例中，所述充气管路上设置氮气总管路手动阀控制总管路氮气的通断，所述充气管路的主管路上设置有压力计。

　　[0013]—些实施例中，所述真空传输温度调节系统包括工业纯水冷却水水源、冷却水管路、开关球阀和流量温度传感器，所述开关球阀和流量温度传感器设置在冷却水管路上，所述冷却水管路与工业纯水冷却水水源连接；所述工业纯水冷却水水源，用于提供冷却水水源；所述冷却水管路，用于提供供水管路；所述开关球阀，用于控制冷却水开关及其流量大小；所述流量温度传感器，用于检测冷却水温度及即时流量。

　　[0014]本发明的有益效果在于:采用真空传输系统、以及稳定真空传输平台真空度的真空传输压力调节系统，以及稳定真空传输平台环境温度的真空传输温度调节系统；真空传输系统有益于高真空度及高洁净度的获得，真空传输压力调节系统有益于真空度稳定及调节，真空传输温度调节系统有益于真空传输平台传输环境温度的稳定，从而有效提高半导体产品合格率。

　　[0018]为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本发明，而不构成对本发明的限制。

　　[0019]本发明提供一种真空传输装置，包括:真空传输系统、真空传输压力调节系统和真空传输温度调节系统；其中，所述真空传输系统，用于真空传输平台提供高真空度；所述真空传输压力调节系统，用于真空传输平台提供稳定的真空度及调节压力；所述真空传输温度调节系统，用于真空传输平台工作环境提供稳定的温度。

　　[0020]本发明真空传输系统有益于高真空度及高洁净度的获得，真空传输压力调节系统有益于真空度稳定及调节，真空传输温度调节系统有益于真空传输平台传输环境温度的稳定，从而有效提尚半导体广品合格率。

　　[0021]所述真空传输系统包括LoadLock A腔室、LoadLock B腔室、真空传输腔室、真空规、真空压力计、真空抽气管路、气动抽气角阀，所述LoadLock A腔室、LoadLock B腔室和真空传输腔室为独立的三个腔室，三个腔室的真空度的监测，易于提供三个腔室不同的真空度，以及三个腔室真空密封的检漏。所述真空抽气管路分别通过所述气动抽气角阀控制抽取所述三个腔室，所述三个腔室分别与所述真空规和线]所述真空传输系统还包括提供前级真空的机械无油干栗和提供高真空的低温栗，所述机械无油干栗通过所述抽气管路分别连接所述LoadLock A腔室、LoadLock B腔室和真空传输腔室；所述低温栗连接所述线]大气手将半导体由洁净度等级达到百级的大气传输系统传输到LoadLock A腔室中缓存；LoadLock A腔室由机械无油干栗抽取前级真空，使半导体的传输环境洁净度提高；通过真空手将半导体由LoadLock A腔室传输到真空传输腔室；真空传输腔室由低温栗抽取高真空，使半导体的传输环境洁净度得到极大提高；由真空手将半导体传输进入工艺腔进行加工。

　　[0024]所述真空传输压力调节系统包括纯净氮气气源、充气管路及充气气阀，所述充气气阀设置在充气管路上，所述纯净氮气气源与充气管路连接，所述充气管路分别连接LoadLock A腔室、LoadLock B腔室和线]纯净氮气气源吹扫三个腔室达到洁净目的，纯净氮气气源与机械无油干栗及低温栗配合得到稳定的真空度。三个腔室之间阀门的两侧需一定的压力差，即一定的真空度差，通过纯净氮气气源与机械无油干栗及低温栗配合获得。

　　[0026]所述真空传输温度调节系统包括工业纯水冷却水水源、冷却水bd半岛管路、开关球阀和流量温度传感器，所述开关球阀和流量温度传感器设置在冷却水管路上，所述冷却水管路与工业纯水冷却水水源连接；所述工业纯水冷却水水源，用于提供冷却水水源；所述冷却水管路，用于提供供水管路；所述开关球阀，用于控制冷却水开关及其流量大小；所述流量温度传感器，用于检测冷却水温度及即时流量。

　　[0028]如图1所示，真空传输系统(真空传输平台)包括LoadLock A腔室1、LoadLockB腔室2和线设置在LoadLock A腔室I与线之间，LLB插入式门阀7设置在LoadLock B腔室2与线之间，线根据实际工艺需求安装不同数量工艺腔室。

　　[0029]本实施例中，安装工艺腔室A、工艺腔室B和工艺腔室C三个工艺腔bd半岛室，分别使用工艺腔A门阀、工艺腔B门阀和工艺腔C门阀实现与线之间的连通和隔离；大气传输系统26通过LLA大气门阀4和LLB大气门阀5实现大气传输系统26和真空传输系统的LoadLock A腔室1、LoadLock B腔室2之间的连通和隔离。

　　[0030]LLA大气门阀4打开，半导体通过大气传输系统26进入LoadLock A腔室I中，LLA插入式门阀6打开，半导体通过LoadLockA腔室I进入线]依据工艺需求，工艺腔A门阀打开，半导体通过线进入工艺腔室A中；当加工完成后，工艺腔A门阀打开，半导体通过工艺腔室A进入线打开，半导体通过线进入LoadLock B腔室2中，LLB大气门阀5打开，半导体通过LoadLock B腔室2进入大气传输系统26。

　　[0034]如图1所示，机械无油干栗24通过抽气管路分别连接LoadLockA腔室ULoadLockB腔室2和线，抽气通断分别由LLA粗抽抽气阀IULLB粗抽抽气阀12和线用于LoadLock A腔室1、LoadLock B腔室2和线提供前级线连接在线控制高线用于提供线的高真空环境，即为半导体真空传输提供线]LLA线，用于检测LoadLock A腔室I的线，用于检测LoadLock B腔室2的线，用于检测线的线]LLA线，用于检测LoadLock A腔室I的压力；LLB线，用于检测LoadLock B腔室2的压力；线，用于检测线用于半导体传输提供百级洁净度要求，半导体经过大气传输系统26进入LoadLock A腔室I中，机械无油干栗24对LoadLock A腔室I进行粗抽，达到所设定真空度，使半导体达到更进一步的洁净度要求。

　　[0039]半导体经过LoadLock A腔室I进入线对线进行高真空抽取，达到超高真空度，使半导体达到极高的洁净度要求，半导体经过线进入工艺腔室A中进行对应的工艺处理bd半岛，极高的半导体洁净度实现较高的生产合格率。

　　[0042]如图2所示，纯净氮气气源34通过供气管路提供LoadLock A腔室ULoadLock B腔室2和线供给氮气。氮气供气主管路上设置氮气总管路手动阀32控制总管路氮气的通断；主管路上安装压力计33，用于检测氮气总管路压力。

　　[0043]LLA快充充气阀27、LLA慢充充气阀28安装在LoadLock A腔室I上，控制LoadLockA腔室I的快充氮气和慢充氮气；LLB快充充气阀29、LLB慢充充气阀30安装在LoadLockB腔室2上，控制LoadLock B腔室2的快充氮气和慢充氮气；线安装在线上，控制真空传输腔室的氮气充气。

　　[0044]纯净氮气对LoadLock A腔室ULoadLock B腔室2和线实现洁净吹扫，半导体由高真空度环境向低真空度环境传输时，阀门开启和关闭动作时要求阀门两侧压力在一定范围内，氮气进行充气，使阀门两侧压力调节到阀门可开启条件下，进行阀门开启和关闭。

　　[0046]如图3所示，LLA冷盘45安装在LoadLock A腔室I上，LLB冷盘46安装在LoadLockB腔室2上，工业纯水冷却水水源48为真空传输系统提供冷却所需冷却水，冷却水手动总阀47控制冷却水供给总管路的通断和总管路的流量大小。

　　[0047]线冷却水供给管路的通断通过线控制，线冷却水回路上安装线检测真空传输腔室中冷却水的温度和流量，反馈调节线]同理，LLA冷却水球阀36、LLB冷却bd半岛水球阀37、LLA冷盘球阀38、LLB冷盘球阀39控制供给冷却水的开关及其流量大小，LLA冷却水流量温度传感器41、LLB冷却水流量温度传感器42、LLA冷盘冷却水流量温度传感器43、LLB冷盘冷却水流量温度传感器44分别实现检测回路上的冷却水的温度和流量。

　　1.一种真空传输装置，其特征在于，包括:真空传输系统、真空传输压力调节系统和真空传输温度调节系统； 其中，所述真空传输系统，用于真空传输平台提供高真空度； 所述真空传输压力调节系统，用于真空传输平台提供稳定的真空度及调节压力； 所述真空传输温度调节系统，用于真空传输平台工作环境提供稳定的温度。2.如权利要求1所述的真空传输装置，其特征在于，所述真空传输系统包括LoadLockA腔室、LoadLock B腔室、真空传输腔室、真空规、真空压力计、真空抽气管路、气动抽气角阀， 所述LoadLock A腔室、LoadLock B腔室和真空传输腔室为独立的三个腔室，所述真空抽气管路分别通过所述气动抽气角阀控制抽取所述三个腔室，所述三个腔室分别与所述真空规和线所述的真空传输装置，其特征在于，所述真空传输系统还包括机械无油干栗和低温栗，所述机械无油干栗通过所述抽气管路分别连接所述LoadLock A腔室、LoadLock B腔室和真空传输腔室；所述低温栗连接所述线所述的真空传输装置，其特征在于，还包括大气传输系统，所述大气传输系统通过LLA大气门阀和LLB大气门阀与所述LoadLock A腔室、LoadLock B腔室连通和隔呙。5.如权利要求4所述的真空传输装置，其特征在于，大气手将半导体由洁净度等级达到百级的大气传输系统传输到LoadLock A腔室中缓存；LoadLock A腔室由机械无油干栗抽取前级真空；通过真空手将半导体由LoadLock A腔室传输到真空传输腔室；真空传输腔室由低温栗抽取高真空；由真空手将半导体传输进入工艺腔进行加工。6.如权利要求2所述的真空传输装置，其特征在于，所述真空传输压力调节系统包括纯净氮气气源、充气管路及充气气阀，所述充气气阀设置在充气管路上，所述纯净氮气气源与充气管路连接，所述充气管路分别连接LoadLock A腔室、LoadLock B腔室和线所述的真空传输装置，其特征在于，所述充气管路上设置氮气总管路手动阀控制总管路氮气的通断，所述充气管路的主管路上设置有压力计。8.如权利要求1所述的真空传输装置，其特征在于，所述真空传输温度调节系统包括工业纯水冷却水水源、冷却水管路、开关球阀和流量温度传感器，所述开关球阀和流量温度传感器设置在冷却水管路上，所述冷却水管路与工业纯水冷却水水源连接； 所述工业纯水冷却水水源，用于提供冷却水水源；所述冷却水管路，用于提供供水管路；所述开关球阀，用于控制冷却水开关及其流量大小；所述流量温度传感器，用于检测冷却水温度及即时流量。

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